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搞不定诺奖?但可以搞定诺奖级的材料!

一年一度的诺贝尔奖在十月揭晓了。纵览历年的诺贝尔物理学奖我们不难发现,很多新材料、新性质的发现都给我们的科研生活留下了浓墨重彩的一笔。


一、诺奖趣事


要说得诺奖,更多得靠上天的眷顾,让科学家有神奇的想法和创意去登上世界科学的巅峰。不过有一位诺贝尔物理学奖得主的经历更是传奇的离谱。你还记得那个磁悬浮青蛙的实验吗?没错,凭借磁悬浮青蛙,安德烈·海姆获得了2000年的搞笑诺贝尔物理学奖,并且他亲自去参加了颁奖仪式(可以自行了解,可不是每个人都敢去领这个搞笑诺奖的哦)。经过这次另类奖项的“洗礼”,他在稀奇古怪的道路上越走越远,有一次他偶然用胶带粘出了单层的石墨——“石墨烯”。2010年他凭借最先制备出石墨烯并测量了石墨烯的物理性质而获得真正的诺贝尔物理学奖。就这样安德烈·海姆成为了拥有“双料”诺奖的全球最“逗”科学家。石墨烯的发现也对物理学的发展起到了巨大的推动作用。很多基本的物理理论在石墨烯中得到了验证、石墨烯的特殊性质促进了新型器件的发展、受到石墨烯的启发科学家制备出了更多种类的二维材料,可见石墨烯的发现意义非凡。虽然得诺奖的人凤毛麟角,对普通的科研工作者而言搞不定诺奖是正常的,但是现在我们可以让您轻松搞定诺奖级的材料。



二、石墨烯制备的先进方案


从最初的石墨剥离方法(胶带粘贴)到化学气相沉积方法(CVD),石墨烯的制备手段一直备受关注。经过十年的发展,CVD方法已成为公认的最有市场前景的石墨烯制备方案。英国Moorfield是一家专注于高质量的薄膜生长与加工技术的研发公司,多年来与曼彻斯特大学安德烈·海姆课题组等多个世界知名科研团队都有重要的合作,并为他们提供高性能的科研设备,其中台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD便是典型代表。与诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有不可比拟的优势。该系列产品操作简便,生长条件控制精准,生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性。30分钟内搞定高质量石墨烯生长,nanoCVD可能是世界最快的石墨烯生长设备

                           

台式高性能CVD石墨烯快速制备系统—nanoCVD 8G



三、走向全球的先进薄膜生长设备


除了石墨烯制备设备,英国Moorfield公司还推出了一系列高性能的薄膜制备与加工设备,例如磁控溅射、热蒸发、等离子刻蚀、高精度热处理等。并且英国Moorfield公司在传统的落地式设备方面也是一直处在领先的行列,尤其是在大面积薄膜制备、手套箱兼容设备等方面更是精益求精。目前英国Moorfield公司已在全球35个国家建立了稳定的销售渠道,每年销售近百套各种型号薄膜制备与加工设备。


日前,QuantumDesign 中国子公司已与英国Moorfield公司正式合作,成为中国的独家代理和战略合作伙伴。QuantumDesign 中国子公司将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务,在正式向中国客户提供设备和服务的短短数月时间内我们便收到了诸多咨询,设备的性能更是受到了国内诸多单位的认可。目前国内首套台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 -nanoPVD S10A订单已落户宁波大学。国内首套台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH已经在中国科学院上海技术物理研究所安装成功并交付使用。QuantumDesign 中国子公司计划逐步将英国Moorfield公司的全部产品引进中国,为中国科研工作者提供更加全面的高性能薄膜制备与加工设备。

 

全球动态:近期安装并交付使用的MinLab090型手套箱集成式金属、有机物热蒸发薄膜生长系统(左)。近期安装并交付使用的大尺寸样品磁控溅射系统(右)。

 


四、其他薄膜制备与加工手段的代表性台式设备


台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统— nanoPVD S10AMoorfield倾力打造的一款高度集成化、智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧,但是功能出色、配置齐全。nanoPVD S10A最多可安装3个水冷式溅射源,可实现高功率持续运行,靶材尺寸与大型系统一样是行业通用尺寸。系统最多可同时控制3路气体,可以实现大型设备才有的共溅射和反应溅射方案。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。


台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统—nanoPVD S10A


台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15AMoorfield推出的 nanoPVD系列中最新的型号,高腔体设计方案专为热蒸发而设计,确保薄膜均匀度。系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源,分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源,可以精准的控制蒸发条件,制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式,可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A广泛应用于全球材料研究领域。剑桥大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等都是该设备的用户。


台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15A


台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH是与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发的可用于二维材料高精度刻蚀的等离子软刻蚀系统。与传统的刻蚀方案相比,nanoETCH在石墨烯和2D材料的关键加工中表现出了很高的性能。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量级,可实现对二维材料的超精准逐层刻蚀,也可实现对二维材料进行层内缺陷制造,还可对石墨等基材进行表面处理。该系统性能已经在剑桥大学石墨烯中心、曼彻斯特大学、英国国家石墨烯中心、西班牙光子科学研究所等诸多用户实验室得到验证。


台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH


台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于维材料以及衬底在特定氛围中的高精度热处理,也可用于其他有高精度热处理要求的方向。英国Moorfield 公司将样品、衬底等材料的热处理上升到与纳米材料的制备同样的技术高度。通过精准的真空度与气氛控制以及高精度的温度控制使样品的热处理过程变得和样品的制备过程一样高度可控。西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室、曼彻斯特大学等用户对该设备的性能赞誉有加。


台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL


多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM是为SEMTEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电极生长而设计的金属溅射系统。系统可配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射导电金属而设计,但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电极制备与学术研究型薄膜样品的制备。


多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM


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